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美国TRION公司等离子去胶机

更新时间:2022-11-03 信息编号:1732929
美国TRION公司等离子去胶机
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北京创世杰公司提供美国Trion公司的Orion III系列等离子增强化学气相沉积(PECVD)系统、Phantom III系列反应离子刻蚀机(RIE,DRIE,ICP等)和Apollo型等离子去胶机。美国Trion公司为化合物半导体、MEMS(微机电系统)、光电器件以及其他半导体市场提供多种等离子工艺设备。美国TRION公司提供的Orion III系列等离子增强化学气相沉积(PECVD)系统、Phantom III系列反应离子刻蚀机(RIE,DRIE,ICP等)和Apollo型等离子去胶机在业内以系统占地面积小,成本合理而着称,且设备及工艺可靠性和稳定性久经考验。美国TRION公司提供的Orion III系列等离子增强化学气相沉积(PECVD)系统、Phantom III系列反应离子刻蚀机(RIE,DRIE,ICP等)和Apollo型等离子去胶机系列产品既包含成套的批量生产设备,也有用于科研开发的系统。 型号:Apollo型和Gemini型等离子去胶机 该两种型号的去胶机是一种低损伤的去胶系统,美国Trion公司通过这两套价格低廉、紧凑型的多功能系统*大降低了等离子去胶机的成本,使得适合于实验室和中小批量生产的需要。 Gemini和Apollo型等离子去胶机黎勇ICP(电感应耦合等离子体)、微波和射频偏置功率,可以再低温条件下将难于消除的光刻胶去除。根据应用要求,每套系统可以结合SST-Lightning微波源(即可靠又没有任何长江的微波调谐问题)或ICP技术。 特点: 1) 刻蚀速率高达6微米/分 2) 产能高 3) 等离子损伤低 4) 自动匹配网络 5) 适用于100mm到300mm基片 6) 设备占地尺寸小 7) 价格具有好的竞争力
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