供应美国4Wave公司离子束刻蚀/沉积系统
更新时间：2022-11-03
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产品概述 4Wave成立于2000年，主要人员及技术均源于美国着名的离子束技术公司Commonwealth Scientific。Commonwealth于2000年被Veeco收购后，其主要的技术及管理高层离开Commonwealth后，重新组建了4Wave公司。4Wave全心致力于研究与应用离子束技术，主要产品为基于离子束技术的薄膜沉积及刻蚀系统，客户群覆盖大学、**、**技术公司等领域。 4Wave良好技术 1. 低能高束流离子源 2. 偏压靶离子束沉积 3. 低能量的**离子束刻蚀 产品特点 离子束刻蚀 1. 真空锁结构可选 2. 单片或行星式装置 3. 射频ICP离子源 4. 刻蚀终点监测 - 二次离子质谱仪 5. 基于PC+PLC的自动化控制系统架构 离子束沉积 1. 真空锁结构可选 2. 多靶自动选择 3. 射频ICP离子源 4. 辅助沉积/表面预清洗离子源 5. 晶振和光学膜厚测量 6. 偏压靶技术可选 应用 1.行星式气冷刻蚀系统 2.应用于磁阻、巨磁阻的离子束沉积系统 3.研发型和工业型DLC硬质薄膜沉积系统 4.AlN介质膜离子束沉积系统 5.应用于半导体存储器镀层的IBD和IBE系统 6.合金纳米涂层溅射系统 7.应用于红外探测器的离子束沉积系统
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