PICOSUN原子层沉积系统ALD R-200 Pro
更新时间：2024-04-16
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PICOSUN原子层沉积系统ALD R-200 Pro （PICOSUN? ALD R-200 S Pro） 原子层沉积系统（ ALD P-200） 名称：原子层沉积系统 产地：芬兰 Picosun简介 Picosun是一家全球公司，Picosun的总部位于芬兰的Espoo，其生产设施位于芬兰的Masala（Kirkkonummi）。PICOSUN?ALD设备专为高产量和高产量而设计，并且不断发展以提**。Picosun适应性强其客户包括zui 大的电子制造商，小型的**型挑战者以及全球ling先的大学。 Picosun的组织机构和种类繁多的ALD解决方案都可以满足每个客户的需求。PICOSUN?研发工具具有*特的内置可扩展性，可确保将研究结果平稳过渡到大批量工业制造中，而不会出现技术差距。Picosun的热情在于**。当您想与设备制造商共同创建定制的ALD解决方案，从而引ling行业发展时，Picosun是您的合作伙伴。 PICOSUN? P系列量产ALD系统定义了高产量ALD的新时代。我们全自动化、真空集群与产线兼容的P系列ALD确保了较大的产出效率，并且具有的工艺纯度和薄膜均匀性，甚至能满足具有较严格要求的半导体行业标准。PICOSUN? P系列ALD紧凑的设计节约了昂贵的场地成本，系统的易维护性减少了停工期。对于系统的维护、工艺故障的排除，我们为客户提供*的售后服务Picosupport?。根据用户的需求，确保每时每（24/7/365）**提供全面的解决方案。在购买之前，我们提供做样服务，确保系统具有较好的性能，满足您的需求。 技术指标 衬底尺寸和类型 50 – 200 mm /单片 156 mm x 156 mm 太阳能硅片 150 mm x 150 mm 显示面板 工艺温度 50 - 500 °C , 可选*高温度 基片传送选件 气动升降（手动装载） 半自动装载，用PICOPLATFORM?200集群系统实现 25片晶圆盒对盒式全自动装载（cassette-to-cassette），用PICOPLATFORM?200集群系统实现 标准 SEMI S2 认证（认证中） 前驱体 液态, 固态, 气态, 臭氧源, 等离子体（较多4路气体）： 前驱源余量传感器，并提供清洗和装源服务 6根独立源管线，较多加载12个前驱体源（加上Plasma管路，共7根独立源管线） 重量 790 kg 尺寸 (W x H x D) 160 cm x 80 cm x 240 cm 可选件 集群工具, PICOFLOW? 扩散增强器, 集成椭偏仪, QCM, RGA, N2发生器，尾气处理器，定制设计，与 工厂软件连接服务。 验收标准 标准设备验收标准为 Al2O3 工艺， 其他工艺可具体协商：其他工艺、应用具体验收标准如： --不均匀性 --颗粒物含量 --重金属污染 --电学性能 应用领域
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