EVG自动纳米压印光刻系统

EVG自动纳米压印光刻系统

EVG?6200 NT SmartNIL UV Nanoimprint Lithography System EVG?6200NT SmartNIL UV纳米压印光刻系统 具有紫外线纳米压印功能的通用掩模对准系统，采用EVG专有的SmartNIL?技术，较大可达150 mm 技术数据 这些系统以其自动化的灵活性和可靠性而着称，以较小的占地面积提供了较新的掩模对准技术。操作员友好型软件，较短的掩模和工具更换时间以及的全球服务和支持使它们成为任何研发环境（半自动批量生产）的理想解决方案。该工具支持多种标准光刻工艺，例如真空，软，硬和接近曝光模式，并且可以选择背面对准。此外，该系统还为多功能配置提供了附加功能，包括键对齐和纳米压印光刻。此外，半自动和全自动系统配置均支持EVG专有的SmartNIL技术。 SmartNIL是行业良好的NIL技术，可对小于40 nm *的*小特征进行图案化，并可以对各种结构尺寸和形状进行图案化。 SmartNIL与多用途软戳技术相结合，可实现**的吞吐量，并具有显着的拥有成本优势，同时保留了可扩展性和易于维护的操作。 EVG的SmartNIL兑现了纳米压印技术的长期前景，纳米压印技术是一种用于大规模生产微米级和纳米级结构的低成本，高产量的替代光刻技术。 *分辨率取决于过程和模板 特征 *侧和底侧对齐能力 **对准台 自动楔形补偿序列 电动和配方控制的曝光间隙 支持较新的UV-LED技术 较小化系统占地面积和设施要求 分步流程指导 远程技术支持 多用户概念（无限数量的用户帐户和配方，可分配的访问权限，不同的用户界面语言） 敏捷处理和转换重组 台式或带防震花岗岩台的单机版 附加功能：键对齐、红外对准、 智能NIL? μ接触印刷 EVG6200NT技术数据 晶圆直径（基板尺寸） 标准光刻：75至200 mm 柔软的UV-NIL：75至200毫米 SmartNIL?：较大150毫米 解析度≤40 nm（分辨率取决于模板和工艺） 支持流程 柔软的UV-NIL和SmartNIL? 曝光源：汞光源或紫外线LED光源 对准 软NIL：≤±0.5 μm SmartNIL?：≤±3 μm 自动分离 柔紫外线NIL：不支持 SmartNIL?：受支持 工作印章制作 柔软的UV-NIL：外部 SmartNIL?：受支持 EVG?720 Automated SmartNIL??UV Nanoimprint Lithography System EVG?720 自动化SmartNIL?UV纳米压印光刻系统 具有EVG专有的SmartNIL?技术的自动全场UV纳米压印解决方案（较大150毫米） 技术数据 EVG720系统利用EVG的**SmartNIL技术和材料*知识，能够大规模制造微米和纳米级结构。具有SmartNIL技术的EVG720系统能够在大面积上印刷小至40 nm *的纳米结构，具有**的吞吐量，非常适合批量生产下一代微流体和光子器件，例如衍射光学元件（ DOEs）。 *分辨率取决于过程和模板 特征 体积验证的压印技术，具有出色的复制保真度 专有的SmartNIL?技术和多次使用的聚合物印模技术 集成式压印，UV固化脱模和工作印模制造 盒带到盒带自动处理以及半自动R＆D模式 可选的*部对齐 可选的迷你环境 适用于所有市售压印材料的开放平台 从研发到生产的可扩展性 系统外壳，可实现较佳过程稳定性和可靠性 EVG720技术数据 晶圆直径（基板尺寸）75至150毫米 解析度≤40 nm（分辨率取决于模板和工艺） 支持流程：SmartNIL? 曝光源：大功率LED（i线）> 400 mW /cm2 对准：可选的*部对齐 自动分离：支持的 迷你环境和气候控制：可选的 工作印章制作：支持 EVG?7200 Automated SmartNIL??UV Nanoimprint Lithography S EVG?7200 自动化SmartNIL?UV纳米压印光刻系统 具有EVG专有的SmartNIL?技术的自动全场UV纳米压印解决方案（较大200毫米） 技术数据 EVG7200系统利用EVG的**SmartNIL技术和EVG的材料专长来实现微米级和纳米级结构的批量生产。该系统将SmartNIL的**软印和压印功能带到了*大的基板和*小的几何形状上，批量生产时的分辨率低至40 nm *。这带来了*大的拥有成本（CoO）收益，并实现了纳米压印光刻技术的全部制造潜力。 *分辨率取决于过程和模板 特征 体积验证的压印技术，具有出色的复制保真度 专有的SmartNIL?技术和多次使用的聚合物印模技术 集成式压印，UV固化，脱模和工作印模制作 盒带到盒带自动处理以及半自动R＆D模式 可选的*部对齐 可选的迷你环境 适用于所有市售压印材料的开放平台 从研发到生产的可扩展性 系统外壳，可实现较佳过程稳定性和可靠性 技术数据 晶圆直径（基板尺寸）75至200毫米； 解析度≤40 nm（分辨率取决于模板和工艺） 支持流程：SmartNIL? 曝光源：大功率LED（i线）> 400 mW /cm2 对准：可选的*部对齐 自动分离：支持的 迷你环境和气候控制：可选的 工作印章制作：支持的 EVG?7200 LA Large-Area SmartNIL??UV Nanoimprint Lithography System EVG?7200LA 大面积SmartNIL?UV纳米压印光刻系统 大面积**的共形纳米压印光刻 技术数据 EVG7200大面积UV纳米压印系统使用EVG专有且经过量证明的SmartNIL技术，将纳米压印光刻（NIL）缩放为*三代（550 mm x 650 mm）面板尺寸的基板。对于不能减小尺寸的显示器，线栅偏振器，生物技术和光子元件等应用，至关重要的是通过增加图案面积来提高基板利用率。 NIL已被证明是能够在大面积上制造纳米图案的较经济有效的方法，因为它不受光学系统的限制，并且可以为较小的结构提供较佳的图案保真度。 SmartNIL利用非常强大且可控的加工工艺，提供了低至40 nm *的出色保形压印结果。凭借*特且经过验证的设备功能（包括**的易用性）以及高水平的工艺*知识，EVG通过将纳米压印提升到一个新的水平来满足行业需求。 *分辨率取决于过程和模板 特征 专有的SmartNIL?技术可在大面积区域提供**的共形烙印 经过验证的技术，具有出色的复制保真度和均匀性 多次使用的聚合物工作印模技术可延长母版使用寿命并节省大量成本 强大且**可控的处理 与所有市售的压印材料兼容 EVG7200LA技术数据 晶圆直径（基板尺寸）：直径200毫米以下直至Gen3（550 x 650毫米） 解析度：40 nm-10 μm（分辨率取决于模板和工艺） 支持流程：SmartNIL? 曝光源：大功率窄带（> 400 mW /cm2） 对准：可选的光学对准：≤±15 μm 自动分离：支持的 迷你环境和气候控制：可选的