PICOSUN原子层沉积系统ALD R-300**版

PICOSUN原子层沉积系统ALD R-300**版

PICOSUN原子层沉积系统ALD R-300**版 （PICOSUN? ALD P-300 Advanced） 名称：原子层沉积系统 产地：芬兰 Picosun简介 Picosun是一家全球公司，Picosun的总部位于芬兰的Espoo，其生产设施位于芬兰的Masala（Kirkkonummi）。PICOSUN?ALD设备专为高产量和高产量而设计，并且不断发展以提**。Picosun适应性强其客户包括zui 大的电子制造商，小型的**型挑战者以及全球ling先的大学。 Picosun的组织机构和种类繁多的ALD解决方案都可以满足每个客户的需求。PICOSUN?研发工具具有*特的内置可扩展性，可确保将研究结果平稳过渡到大批量工业制造中，而不会出现技术差距。Picosun的热情在于**。当您想与设备制造商共同创建定制的ALD解决方案，从而引ling行业发展时，Picosun是您的合作伙伴。 PICOSUN? R系列设备提供高质量ALD薄膜的沉积技术，并在各种各样的衬底上都表现*佳的均匀性，包括较具挑战性的通孔的、*高深宽比和颗粒等样品。我们为液体、气体和固体化学物提供的***的，易更换的前驱源系统，能够在晶圆、3D样品和各种纳米特性的样品上生长颗粒度较小的薄膜层。在较基本的PICOSUN? R系列配置中可以选择多个独立的，分离的源入口匹配多种类型的前驱源。PICOSUN? R系列*特的扩展性使ALD工艺可以从研究环境直接过渡到生产环境的PICOSUN? P系列ALD系统。由于研发型与生产型PICOSUN?反应腔室**设计特点都是相同的,这消除了实验室与制造车间之间的鸿沟。对大学来说,突破**的技术转化到生产中，就会吸引到企业投资。 PICOSUN?R-300** Picosun? 300mm生产线上的产品是300mm以下晶圆的自动化、高产量的工业ALD加工设备。包括PICOSUN? P系列Pro和Advanced ALD设备。该工具可以独立工作，也可以集成到PICOPLATFORM?300真空集群系统以达到*高的产量和自动化水平。为了节约昂贵的设施空间，所有PICOSUN?的ALD系统有着紧凑、的设计。集成的*机柜，装载着前驱体和电子元件，*了**简便的维护和较短的停机时间。PICOSUN? P系列工具*了较大产能以及较节约成本的情况下得到良好的ALD工艺质量，并履行严格的现代半导体产业的生产力和安全要求。 工艺咨询和开发，产能提升，维护保养流程和系统及工艺的故障排除，我们客户化定制的PICOSUPPORT?综合解决方案24小时**响应，随时待命。在购买之前，我们的演示服务*了设备可以**满足客户较苛刻的产线需求。 技术指标 衬底尺寸和类型 156 mm x 156 mm硅片50～100片/批次（双面/背对背） 高达300 mm x 300 mm玻璃基板10～20片/批次（双面/背对背） 大批量的3D产品（例如：钟表部件，珠宝，硬币，医疗植入部件，机械部件等） 粉末与颗粒 Roll-to-roll, 衬底较大宽 300 mm 多孔，通孔，与高深宽比（HAR）样品 工艺温度 50-500℃ 基片传送选件 气动升降（手动装载） 半自动装载，用线性装载器实现 全自动转载，用工业机器人实现 前驱体 液态、固态、气态、臭氧源 前驱源余量传感器，并提供清洗和装源服务 4根独立源管线，较多加载6个前驱体源 重量 400 + 300 kg 尺寸 (W x H x D) 149 cm x 191 cm x 111 cm 选件 PICOFLOW? 扩散增强器，N2发生器，尾气处理器，定制设计，与工厂软件连接服务。 验收标准 标准设备验收标准为 Al2O3 工艺 应用领域 客户使用PICOSUN? R系列ALD 设备在150mm和200mm（6“和8”）晶圆上所沉积薄膜厚度均匀性数据。 材料 非均匀性(1σ) AI2O3 (batch) 0.13% SiO2 (batch) 0.77% TiO2 0.28% HfO2 0.47% ZnO 0.94% Ta2O5 1.00% TiN 1.10%