PICOSUN原子层沉积系统ALD R-300 Pro

PICOSUN原子层沉积系统ALD R-300 Pro

PICOSUN原子层沉积系统ALD R-300 Pro （PICOSUN? ALD ALD P-300 Pro） 名称：原子层沉积系统 产地：芬兰 Picosun简介 Picosun是一家全球公司，Picosun的总部位于芬兰的Espoo，其生产设施位于芬兰的Masala（Kirkkonummi）。PICOSUN?ALD设备专为高产量和高产量而设计，并且不断发展以提**。Picosun适应性强其客户包括zui 大的电子制造商，小型的**型挑战者以及全球ling先的大学。 Picosun的组织机构和种类繁多的ALD解决方案都可以满足每个客户的需求。PICOSUN?研发工具具有*特的内置可扩展性，可确保将研究结果平稳过渡到大批量工业制造中，而不会出现技术差距。Picosun的热情在于**。当您想与设备制造商共同创建定制的ALD解决方案，从而引ling行业发展时，Picosun是您的合作伙伴。 PICOSUN? ALD P-300 Pro：Picosun? 300mm生产线上的产品是300mm以下晶圆的自动化、高产量的工业ALD加工设备。包括PICOSUN? P系列Pro和Advanced ALD设备。该工具可以独立工作，也可以集成到PICOPLATFORM?300真空集群系统以达到*高的产量和自动化水平。为了节约昂贵的设施空间，所有PICOSUN?的ALD系统有着紧凑、的设计。集成的*机柜，装载着前驱体和电子元件，*了**简便的维护和较短的停机时间。PICOSUN? P系列工具*了较大产能以及较节约成本的情况下得到良好的ALD工艺质量，并履行严格的现代半导体产业的生产力和安全要求。 工艺咨询和开发，产能提升，维护保养流程和系统及工艺的故障排除，我们客户化定制的PICOSUPPORT?综合解决方案24小时**响应，随时待命。在购买之前，我们的演示服务*了设备可以**满足客户较苛刻的产线需求。 技术指标 衬底尺寸和类型 较大300mm晶圆/单片 工艺温度 50 - 500 °C 基片传送选件 半自动装载，用单片Load lock与磁力操纵杆实现 25片晶圆盒对盒式全自动装载（cassette-to-cassette），用PICOPLATFORM? 300集群系统实现 标准 SEMI S2认证 前驱体 液态，固态，气态，臭氧源 等离子体（仅供200mm晶圆使用，较多4路气体） 前驱源余量传感器，并提供清洗和装源服务 6条独立源管线,较多加载8个前驱体源（较多12个前驱体源，加上plasma管路共7根独立源管线） 重量 820 kg 尺寸(W x H x D) 160 cm x 80 cm x 240 cm 选件 集群工具，PICOFLOW?扩散增强，N2发生器，尾气处理，定制设计，与工厂软件连接服务。 验收标准 标准设备验收标准为Al2O3工艺， 其他工艺可具体协商：其他工艺、应用具体验收标准如： --不均匀性 --颗粒物含量 --重金属污染 --电学性能 应用领域 PICOSUN? 300 mm 生产线应用案例 集成电路组件 微机电系统 氧化物间隔层 扩散阻挡层 间聚介质 **涂层 高K栅介质 电荷耗散层 隧穿氧化物薄膜 导热层 氧化物阻挡层 导电种子层 钝化层 刻蚀阻挡层 间隙填充层 电绝缘层 覆盖层 防摩擦层 铜阻挡层和阻挡层 防粘着层 粘附层 光学薄膜 扩散阻挡层 生物兼容层 点* 密封层 金属化 纳米孔封堵层 其他 显示 晶体管 钝化 电容层 透明导电薄膜 存储器 绝缘层 读写磁头