0.5吨二级反渗透设备- 电脑元器件清洗、高纯水设备
更新时间：2023-06-29
信息编号：1765201
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IC行业清洗纯水，OLED清洗纯水太阳能光伏用纯水设备，光电行业用纯水设备，半导体行业用纯水设备，单晶硅/多晶硅/硅材料/太阳能电池用工业纯水设备，LCD液晶显示器纯水设备，LED光学纯水设备，玻璃镀膜配套超高纯水设备，光学镜片清洗用纯水设备，薄膜电池多晶铸锭超纯水设备, EDI电去离子，各行业用超纯水处理设备。
特点：在设备设计上，采用成熟、可靠、先进、自动化程度高的两级RO＋EDI＋精混床除盐水处理工艺，全膜法处理工艺：UF+二级RO+EDI+抛光混床。确保处理后出水电阻率达到18 MΩ.CM以上。保证产品质量的需求！
参数：污染物去除率脱盐率：99.8% 有机物去除率：>150MW 细菌隔除率：>99% 热原去除率：>99% 颗粒去除率：>99% 进水要求：污染指数(SDI)：<5 余氯：<0.1mg/L PH：5-8
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