启天等离子刻蚀机
更新时间：2022-06-26
信息编号：1600736
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等离子体刻蚀设备的原理是在真空状态下，利用射频辐射使得氧、氩、四氟化碳等气体生成具有高反应活性的离子与器件等反应形成挥发性化合物物。然后由真空系统将这些挥发性的物质清除出去。 等离子体刻蚀设备应用于刻蚀硅片边沿的硅磷层，扩散过程中，不但硅片的表面扩散了磷，硅片边缘也扩散了磷，这会导致硅片正反两*通过边缘导通短路。所以必须将硅片边缘这层被扩散上的硅磷去掉，大概去除1到3个微米。硅片在刻蚀机内水平旋转，通入的反应气体位四氟化碳、氧气和氮气。其原理实在放电状态下反应气体四氟化碳、氧气和硅片边缘的硅化合物发生反应生成硅，反应形成粉末和气态物质后随气流一起被抽走等。
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