美国安智 ** AZ-P4620 AZ-1500 AZ-400K AZ50XT AZ10XT AZGXR-601 AZ500 AZ5214E AZP4400 AZP4210 AZP4330 AZ

美国安智 ** AZ-P4620 AZ-1500 AZ-400K AZ50XT AZ10XT AZGXR-601 AZ500 AZ5214E AZP4400 AZP4210 AZP4330 AZ

美国安智 ** AZ-P4620 AZ-1500 AZ-400K AZ50XT AZ10XT AZGXR-601 AZ500 AZ5214E AZP4400 AZP4210 AZP4330 AZP4903 AZ6112 AZ6130 光刻胶 型号齐全 稳定货源 **大学研究所 正性 负性 电子信息 光刻胶 PR 安智AZ AZ6112 AZ6130 高感光度 **中科院 正性 负性 干膜 光刻胶 PR 安智AZ AZ6112 AZ6130 高产出率 ** 研究所 正性 负性 报告 光刻胶 PR 安智AZ AZ6112 AZ6130 干法刻蚀 ** 光电实验室 正性 负性 聚酯型 光刻胶 PR 安智AZ AZ6112 AZ6130 宽膜厚 **光电所 正性 负性 信息 光刻胶 PR 安智AZ AZ6112 AZ6130 成分稳定 大学研究所 正性 负性 厚浆 光刻胶 PR 安智AZ AZ1500 ** 附着性好 供应中科院 正性 负性 光刻胶 PR 安智AZ AZ1500 ** 湿法刻蚀 成份稳定 光电实验室 正性 负性 光刻胶 PR 安智AZ AZ1500 ** ** 光电所 正性 负性 光刻胶 PR 安智AZ AZ1500 可靠性高 研究所 正性 负性 光刻胶 PR 安智AZ AZ1500 应用广泛 ** 供应大学研究所 正性 负性 光刻胶 PR 安智AZ AZ3100 G线I线通用 稳定** ** 中科院 正性 负性 光刻胶 PR 安智AZ AZ3100 附着性好 供应 **光电实验室 正性 负性 光刻胶 PR 安智AZ AZ3100 干法刻蚀，湿法刻蚀 ** 研究所 正性 负性 光刻胶 PR 安智AZ AZ3100 G线I线通用 光电所 正性 负性 光刻胶 PR 安智AZ AZ3100 刻蚀工艺 应用广泛 ** ** 大学研究所 圆片级封装（WLP) 正性 负性 光刻胶 PR 安智AZ AZ50XT AZ10XT 分辨率高 中科院 圆片级封装（WLP) 正性 负性 光刻胶 高纵宽比 PR 安智AZ AZ50XT AZ10XT ** 供应 光电实验室 圆片级封装（WLP) 正性 负性 光刻胶 PR 安智AZ ** AZ50XT AZ10XT 附着性好 ** 光电所 圆片级封装（WLP) 正性 负性 光刻胶 PR 安智AZ AZ50XT AZ10XT 电镀工艺高耐受性 ** 研究所 圆片级封装（WLP) 正性 负性 光刻胶 PR 安智AZ AZ50XT AZ10XT 凸点UBM工艺 **大学研究所 圆形化衬底（PSS）正性 负性 光刻胶 PR 安智AZ AZGXR-601 G线I线通用 **中科院 圆形化衬底（PSS）正性 负性 光刻胶 PR 安智AZ AZGXR-601 高感光度 **光电实验室 圆形化衬底（PSS）正性 负性 光刻胶 PR 安智AZ AZGXR-601 高产出率 **研究所 圆形化衬底（PSS）正性 负性 光刻胶 PR 安智AZ AZGXR-601 干法刻蚀 **光电所 圆形化衬底（PSS）正性 负性 光刻胶 PR 安智AZ AZGXR-601 成分稳定 **大学研究所 lift-off工艺 正性 负性 光刻胶 蒸镀 PR 安智AZ AZ500 AZ5214E **中科院 lift-off工艺 正性 负性 光刻胶 蒸镀 PR 安智AZ AZ500 AZ5214E 分辨率好 **光电实验室 lift-off工艺 正性 负性 光刻胶 蒸镀 PR 安智AZ AZ500 AZ5214E 宽膜厚范围 **光电所 lift-off工艺 正性 负性 光刻胶 蒸镀 PR 安智AZ AZ500 AZ5214E 正/负反转 **研究所 lift-off工艺 正性 负性 光刻胶 蒸镀 PR 安智AZ AZ500 AZ5214E 可靠性高 **大学研究所 电镀工艺 高耐受性 正性 负性 光刻胶 PR 安智AZ AZP4620 AZP4400 高对比度 **中科院 电镀工艺 高耐受性 正性 负性 光刻胶 PR 安智AZ AZP4620 AZP4400 高感光度 **光电实验室 电镀工艺 高耐受性 正性 负性 光刻胶 PR 安智AZ AZP4620 AZP4400 成分稳定 **光电所 电镀工艺 高耐受性 正性 负性 光刻胶 PR 安智AZ AZP4620 AZP4400 论文验证