浙江玻璃镀膜**纯水设备，光学仪器清洗**纯水设备
更新时间：2023-11-17
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浙江玻璃镀膜**纯水设备，光学仪器清洗**纯水设备 应用领域和指标要求参考： 用途 用水指标 参考标准 高纯硅粉生产 电阻率15 ~18.25 MΩ.CM 我国电子级水质技术指标，GB11446-1-1997 GB11446-1-1997 美国半导体工业用纯水指标 单晶硅和多晶硅材料生产，切片、清洗用高纯水 电阻率15 ~18.25 MΩ.CM 美国半导体工业用纯水指标 我国电子级水质技术指标，GB11446-1-1997 GB11446-1-1997 太阳能电池片生产 电阻率18 MΩ.CM 我国电子级水质技术指标，GB11446-1-1997 GB11446-1-1997 美国半导体工业用纯水指标 蓝宝石、光学玻璃清洗用水 电阻率15 ~18.25 MΩ.CM 我国电子级水质技术指标，GB11446-1-1997 GB11446-1-1997 石英坩埚，多晶硅方舟 电阻率15 ~18.25 MΩ.CM 我国电子级水质技术指标，美国半导体工业用纯水指标 ? 主要工艺流程和出水指标： ※ 预处理+反渗透+离子交换器（电阻率≥15MΩ.CM） ※ 预处理+二级反渗透+EDI（电阻率≥15MΩ.CM） ※预处理+二级反渗透+脱气膜+EDI +抛光混床（电阻率≥18.25MΩ.CM） （详细工艺需根据原水设计情况进行设计） ? 纯水设备的主要特点 ： 结合电子工业用水连续生产的特性，采用了全膜法处理工艺（UF+RO+EDI）完成高纯水的制备工作； 对于电子行业用水的特性，增强了对水中二氧化硅、重金属和**碳的脱除； 采用了氮封水箱解决了电子工业用水要求较高，水的储存容易污染问题； 采用进口反渗透膜，脱盐率高，使用寿命长，运行成本低廉，产水水质高而稳定； 在线水质监测控制，实时监测水质变化，**水质安全； 全自动电控程序，还可选配触摸屏操作，使用方便，操作简单、安全； 切合当地水质的个性化设计，设想周到的堆叠式设计，占地面积小，*满足需求。 运行费用及维修成本低，全自动运行，实现无人化管理操作。 ? 主要工艺流程和出水指标： ※ 预处理+反渗透+离子交换器（电阻率≥15MΩ.CM） ※ 预处理+二级反渗透+EDI（电阻率≥15MΩ.CM）
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